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涂層設備

涂層設備

磁控濺射離子-等離子涂層     

1. 功能:利用磁控濺射離子-等離子技術,材料表面多功能膜制備,納米結構圖層、生物相容性涂層、半導體涂層等。

2. 技術特征:高真空與離子-等離子技術結合;等離子體與帶電粒子束磁控管的結合產生具有獨特性能的涂層。針對不同目的、不同的體需要改變離子等離子涂層。

3. 應用領域:航空高溫材料耐熱涂層制備,光學鍍膜,納米科技,醫學,電子器件等。

 

nanoplasmacoating

 

 

高能束-等離子束制備涂層     

功能:利用等離子技術在材料表面制備多層膜

 

hybridtechbeamplasma

 

 

 

高能離子注入表面改性設備     

功能:通過離子注入改善材料表面抗腐蝕性、抗摩擦性、耐熱性能等。

 

Ionbeam

 

 

加速脈沖離子-等離子設備     

1. 功能:材料表面改性,功能膜制備。

2. 技術:脈沖離子加速器結合磁控濺射技術在同一腔內產生高能離子-等離子束,對材料表面鍍膜或改性。

 

PlasmaSprayingcoating